沉銅是化學(xué)反應(yīng) , 鍍銅是電解反應(yīng)。
沉銅主要使線路導(dǎo)通, 而鍍銅是進(jìn)行板面和孔壁加厚。

1、化學(xué)鍍銅
是在具有催化活性的表面上,通過還原劑的作用使銅離子還原析出:
還原(陰極)反應(yīng):CuL2+ + 2e- → Cu + L
氧化(陽極)反應(yīng):R → O + 2e-
因此,利用次亞磷酸鈉作為還原劑進(jìn)行化學(xué)鍍銅的主要反應(yīng)式為:2H2PO2- + Cu2+ + 2OH- → Cu + 2H2PO3 + H2↑
除熱力學(xué)上成立之外,化學(xué)反應(yīng)還必須滿足動(dòng)力學(xué)條件?;瘜W(xué)鍍銅如同其他催化反應(yīng)一樣需要熱能才能使反應(yīng)進(jìn)行,這是化學(xué)鍍液達(dá)到一定溫度時(shí)才有鍍速的原因。理論上化學(xué)鍍銅的速度可以由反應(yīng)產(chǎn)物濃度增加和反應(yīng)物濃度減少的速度來表達(dá)。由于實(shí)際使用的化學(xué)鍍銅溶液中含有某些添加劑,它的存在使得影響因素過多、情況變得太復(fù)雜。因此,大多數(shù)化學(xué)鍍銅反應(yīng)動(dòng)力學(xué)研究開始時(shí)限于鍍液中最基本的成分。
2、電鍍銅
具體過程如下:電鍍過程順利進(jìn)行需要有以下條件:電鍍電源(可以把交流電轉(zhuǎn)化為直流電)、鍍液(里面含有鍍層金屬,如何要電鍍銅,鍍液中必須含有銅離子,其他的依次類推,除了含有銅離子外,鍍液中還含有其他一些離子)、工件(電鍍的話,工件必須是導(dǎo)電的,不然無法電鍍)、極板(在電鍍過程中必須有兩級,工件作為陰極、另外陽極需要用惰性材料或者鍍層金屬板制成);有了上述的東西進(jìn)行組裝就行了,打開電源就能電鍍,鍍層就可以形成。
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